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超高真空多靶磁控溅射仪
超高真空多靶磁控溅射仪
极限真空:6.6×10-8Pa
磁控靶:内径50-内径200,1-4只;DC与RF兼容 水冷,可根据需要选型 尚可配置矩形靶:300×120 圆柱靶:内径76×300-700 电磁靶:内径70

可制备样品尺寸:内径50-内径150mm ,内径200×300mm, 可选择冷却、加热、反溅射清洗、公转、自转等功能。

样品加热温度可达600°C. 其他选择增加功能:膜厚测试、反应溅射、离子束增强磁控溅射。