主要用途：
磁控溅射仪设备已形成系列产品，多种规格型号、单室、双室、多室各种形式。与蒸发、电子束、激光镀膜联合组成多功能镀膜系统。
特别适用于新材料、新器件、新工艺研究，多室连续磁控制镀膜设备已用于生产。
适用于镀膜：半导体薄膜、介质薄膜、绝缘体薄膜、磁性材料薄膜、超硬材料薄膜、太阳能电池薄膜等各种功能性薄膜。膜层厚度监测、原位生长分析。